Стик для маски с глиной и центеллой от Skin 1004

Обзор продукта

Стик для маски с глиной и центеллой от Skin 1004 – 27г является целенаправленным решением для ухода за кожей, разработанным для эффективного очищения и освежения кожи. Этот корейский стик для глиняной маски формулируется для удаления избыточного жира и загрязнений из пор, не раздражая кожу и не вызывая стянутости. Удобный формат стика обеспечивает легкое нанесение, что делает его практичным выбором для тех, кто ищет быстрое освежение кожи.

Ключевые преимущества/особенности:

Глубокое очищение

Стик для маски с глиной проникает глубоко в поры, чтобы удалить избыточный жир и загрязнения с самого первого использования, способствуя более чистому и здоровому цвету лица.

Баланс увлажнения

С 30% увлажняющего экстракта эта маска помогает поддерживать уровень увлажненности кожи, обеспечивая, чтобы при удалении загрязнений кожа не ощущала себя пересушенной или лишенной влаги.

Удобный дизайн

Формат стика позволяет легко наносить маску без беспорядка, связанного с традиционными глиняными масками. Он разработан для быстрого использования, подходит для занятого образа жизни.

Подходит для чувствительной кожи

Эта маска не содержит ароматизаторов и искусственных красителей, что делает ее безопасной для чувствительных типов кожи. Она обеспечивает эффективное очищение без раздражения.

Как использовать:

Откройте крышку и поверните основание, чтобы снять внутреннюю крышку. Проведите стиком по лицу, избегая области глаз и рта. Оставьте на 2–3 минуты для быстрого очищения или на 10–15 минут для более глубокого очищения. Аккуратно смойте теплой водой. Наслаждайтесь легким, чистым и освеженным цветом лица.

Детали продукта:

– Вес: 27г
– Формула: Стик для глиняной маски
– Ключевой ингредиент: Центелла
– Не содержит: Ароматизаторов и искусственных красителей

Стик для маски с глиной и центеллой от Skin 1004 предлагает практичное и эффективное решение для поддержания чистой и сбалансированной кожи, адаптированное для тех, кто ищет эффективность без компромиссов в уходе.